我公司是生产真空应用设备的专业厂家，真空镀膜设备是我公司主要产品之一，随着薄膜应用的普遍，真空镀膜的需求量也越来越大

石墨烯生长炉由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成 ，*高温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流...

混气管式PECVD系统由单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成

RTP滑轨式快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，可在真空、不同气氛、空气不同环境下，对样品进行快速热处理，不同材料快速退火、硅化、扩散...

1200℃可倾斜式旋转管式炉，为煅烧无机化合物获得较好的*性而设计。用于无机化合物（矿粒和电池材料）的均匀烧结，该款管式炉是粉末冶金，陶瓷，耐火材料，锂电正负极...

化学气相沉积CVD系统由高温管式炉，真空压强控制系统，多通道高精度数字质量流量控制系统，过压保护及冷凝等部分组成，可实现真空达0.1mbar混合气体化学气相沉积...

真空炉CVD系统，混气系统，真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃，通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过三...

牙科炉（烤*结晶炉）主要用于义齿加工厂完成二氧化锆牙冠的结晶烧结，高校、科研院所、工矿企业做高温烧结与金属退火。

氧化锆烧结炉（义齿烧结炉）主要用于义齿加工厂完成二氧化锆牙冠的结晶烧结，高校、科研院所、工矿企业做高温烧结与金属退火。

1700度可升降式移动钟罩炉广泛应用于磁性材料，电子陶瓷材料，粉末冶金等产品的预烧和烧结，也可满足特种材料在保护气氛下的烧结。

1200度多晶陶瓷纤维箱式马弗炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品...

1700度箱式热处理电阻炉主要应用于高校实验室、工矿企业、科研单位、院校作元素分析测定和一般小型钢件淬火、退火、回火等热处理时加热用，箱式高温炉还可作金属、陶瓷...

卧式真空高压气淬炉是我公司生产的真空热处理设备，是当今*热处理设备的典型代表。产品用途：高、中和低合金钢的淬火、退火和回火处理/高温钎焊/渗碳和表面淬硬钢的淬火...

1200℃隔热屏真空钎焊炉真空系统用户可选配扩散泵机组：扩散泵+旋片真空泵，分子泵机组：分子泵+旋片真空泵，也可根据用户要求加罗茨泵。本机组不适宜抽除对金属有腐...

1700度高温真空烧结炉要应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。

1200度小型高温真空炉主要应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶...

1200度实验室坩埚炉（井式炉）主要用于高校、科研院所、工矿企业煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等，主要用...

1200度高温箱式气氛炉应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产...

1700度真空坩埚炉（侧开式）主要用于高校、科研院所、工矿企业煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等，主要用于...

1200℃七温区真空管式气氛炉主要应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 是各大材料实验室*的理想设备之一。